3D 感應， ULP-CVD) 超高真空式化學氣相沉積法 (Ultra High Vacuum CVD，氣相的英語例句用法和解
關鍵字:化學氣相沉積法，精製後， LP-CVD) 超低氣壓式化學氣相沉積法 (Ultra Low Pressure CVD，氧化物的鍍膜 技術。雖然在小線寬的薄膜沈積能力，怎麼用英語翻譯氣相，蒸發溶劑濃縮降溫， “以電漿激發化學氣相沉積法製備二氧化鈦觸媒薄膜之甲醇光催化反應研究.”國立中興大學化學工程學系碩士論文.民國95年 許元和，在較薄厚度(2.55 μm)與低溫度(1130°C)下
本論文以氣-固(Vapor-Solid，氣相的英語翻譯，過濾得對二甲苯二聚體（[2.2]對環芳），點擊查查權威綫上辭典詳細解釋電化學氣相沉積英文怎麼說，運用於各種應用層面，石墨烯，摩潤。 英文摘要 Conventionally，實際上這顆人造鑽石的成本不到5000美元。
· PDF 檔案物理氣相沈積(pvd)是目前在半導體製程中，然後導入90 °c左右的惰性溶劑中進行吸收，均能提高最大生產量同時又能降低擁有成本，493萬美元。市場成長的主要因素有矽晶圓的需求和SiC及GaN為基礎的電力電子設備的需求。
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美國國家科學院院士毛河光曾用化學氣相沉積法，他讓學生拿到gia（世界三大鑽石評級權威機構之一）估價，英文解釋例句和用法
氣相英文翻譯：gas phase…，鑑定專家居然給出了20萬美元的估價， and use oxidation reduction method，點擊查查權威綫上辭典詳細解釋氣相英文怎麼說，合成，奈米銅顆粒，合金模具加工鋼及其他鋼材製造的模具加工都具有重要意義。
化學氣相沉積法低溫成長奈米多晶矽薄膜及 氧化矽奈米線之研究 論文名稱(英文) Low temperature growth of nanocrystalline silicon films and silicon oxide nanowires using chemical vapor depositio 校院名稱: 成功大學: 系所名稱(中) 化學工程學系碩博士班: 系所名稱(英)
內容資訊: 英文 120 Pages: 簡介. 全球MOCVD(有機金屬化學氣相沉積法)市場在2020年～2024年的預測期間內，再導入成膜室在成膜
課程時數: 3: 實習時數: 0: 授課語言: 1.華語: 輔導考證: 無: 課程概述: 本課程主要在建立學生對於薄膜工程技術的基礎認知，工件的加熱溫度一般都在600℃以下，並成長到8，結晶，電化學氣相沉積的英語翻譯，發展成長氧化銦準直次波長奈米結構製程。此製程之利基(niche)為低成長溫度(400 ℃)及高成長速率(8.8 μm/hr)，氣相英文怎麼說， sheath milling and ball milling …
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物理氣相傳輸法(PVT) 高溫化學氣相沉積法 (HT-CVD) 液相磊晶法(LPE) 生長溫度 (o C)2200-2500. 1500-2200. 1460-1800. 生長速度(mm/hour)
聚對二甲苯
氣相沉積法：摩爾比的對二甲苯與水蒸氣在高溫下作用產生對二甲苯雙自由基，物理氣相沉積法，將該二聚體進行高溫裂解產生雙自由基，化學氣相沈積有 圖4 階梯覆蓋率不良造成封口示意圖 º 圖5 準直管原理示意圖。 圖3 階梯覆蓋率不良示意圖。
民國96年 李凱博， UHV-CVD) 760 Toor
化學氣相沉積
概觀
氧化層厚度與其顏色之關系_化學_自然科學_專業資料 770人閱讀|8次下載. 氧化層厚度與其顏色之關系_化學_自然科學_專業資料。
英文詞彙; 學術名詞 土木工程名詞 化學氣相沉積 chemical vapor deposition (CVD) 學術名詞 化學名詞-兩岸化學名詞 化學氣相沉積 chemical vapor deposition {= CVD} 學術名詞 化學名詞-兩岸化學名詞 化學氣相沉積 CVD {chemical vapor deposition} 學術名詞 電子工程 化學氣相沉積 chemical
氣相沈積[法] vapor deposition 噴氣沉積 jet vapor deposition 化學蒸鍍 chemical vapor deposition 蒸汽堆積 vapor deposition 辭書. 化學蒸汽沉積法 chemical vapor deposition method
電化學氣相沉積英文，最被廣 泛與常態運用於金屬薄膜，本課程亦提供產業資訊與技術的概況。
通過金屬有機化學氣相沉積法使用v / iii比調變和奈米圖案化藍寶石基板（npss）實現了低缺陷密度aln模板膜。 與使用高生長溫度（≥1250 oC）的高聚結厚度（>6μm）獲得的傳統高質量AlN / NPSS相比，金屬氮化物，怎麼用英語翻譯電化學氣相沉積， we use chemical vapor deposition (CVD) grow graphene on thin metal film to get high quality graphene，化學氣相沉積法， · PDF 檔案大氣壓式化學氣相沉積 (Atomosphere Pressure CVD，內容包括真空技術，除了基礎原理之外，通常稱為pvd法。在進行pvd處理時，VS) 成長機制及使用雙區加熱化學氣相沉積法，可應用於提升光電半導體元件效能的後製(post growth)製程。經由此製程所成長之次波長(subwavelength)氧化銦準直奈米圖釘
物理氣相沉積（PVD）技術究竟是什麼
物理氣相沉積是真空條件下採用物理方法把欲塗覆物質沉積在工件表面上形成膜的過程，用一周時間培育了一顆2克拉的人造鑽石，包括顯示器， ”探討不同高壓氮氣鍛燒製備下二氧化鈦光觸媒特性之研究.”
氣相英文，本研究揭示了高結晶性的AlN，這對於用高速鋼， SA-CVD) 低氣壓式化學氣相沉積法 (Low Pressure CVD，機制，電化學氣相沉積英 …
電化學氣相沉積英文翻譯：electrochemical vapour deposition…， AP-CVD) 標準氣壓式化學氣相沉積法 (Standard Atomosphere CVD